Dùng điện thoại chụp lén tài liệu quy trình 2nm của TSMC để tuồn cho đối thủ, kỹ sư đối mặt mức án 14 năm tù

Đài Loan đang truy tố hình sự một nhóm kỹ sư liên quan đến vụ đánh cắp bí mật công nghệ tại TSMC, trong đó các cá nhân bị cáo buộc vi phạm Đạo luật An ninh Quốc gia. Theo báo UDN, công tố viên đã hoàn tất điều tra và đề nghị mức án lên đến 14 năm tù giam cho những người liên quan.

Hành vi phạm tội diễn ra từ năm 2023 đến giữa năm 2024. Theo hồ sơ truy tố, Chen Liming đã nhiều lần tiếp cận hai kỹ sư đang làm việc tại TSMC là Wu Bingjun và Ge Yiping, yêu cầu họ cung cấp công nghệ then chốt và bí mật thương mại. Mục tiêu là giúp Tokyo Electron (TEL) - công ty mà Chen Liming đại diện - trở thành nhà cung cấp thiết bị khắc axit cho dây chuyền sản xuất quy trình 2nm của TSMC. Sau khi thu thập được dữ liệu, TEL dùng thông tin này để cải thiện hiệu suất thiết bị, đủ điều kiện cung cấp thiết bị cho các cơ sở sản xuất đại trà của TSMC.

Hệ thống bảo mật nội bộ của TSMC phát hiện các dấu hiệu truy cập trái phép vào cơ sở dữ liệu công ty. Điều tra xác định các kỹ sư đã dùng điện thoại cá nhân để chụp ảnh tài liệu nhạy cảm liên quan đến quy trình N2. Nhân vật trung tâm là Chen Weijie, cựu nhân viên TSMC đã chuyển sang làm việc tại Tokyo Electron. Chen Weijie cùng cựu quản lý tại TEL hiện đối mặt với cáo buộc hình sự.

Đài Loan xếp đánh cắp công nghệ bán dẫn vào nhóm tội phạm nghiêm trọng nhất.

Ngoài vụ liên quan đến TEL, một điều tra riêng đang được tiến hành nhắm vào Wei-Jen Lo, cựu nhân viên TSMC hiện công tác tại Intel, với cáo buộc tương tự về việc chuyển giao công nghệ nhạy cảm.